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I chip più avanzati vengono incisi con luce di appena 13,5 nanometri di lunghezza d'onda, molto più corta della luce visibile.

Come generano davvero questa luce ultravioletta estrema le macchine per litografia EUV?

Vaporizzando minuscole gocce di stagno con un laser
Decine di migliaia di gocce di stagno fuso al secondo vengono colpite da un laser potente e si trasformano in plasma che emette luce a 13,5 nm. Poiché nessuna lente trasmette lunghezze d'onda così corte, la luce è guidata solo da specchi di precisione.

Le macchine per litografia EUV generano la loro luce ultravioletta estrema colpendo decine di migliaia di minuscole goccioline di stagno fuso al secondo con un potente laser, trasformando ogni goccia in un plasma che emette luce alla lunghezza d'onda richiesta di 13,5 nanometri, che viene poi riflessa da una serie di specchi ultra-precisi, poiché nessuna lente può trasmettere una luce così corta.

Riscaldare un filamento di tungsteno produce luce visibile o infrarossa ordinaria, come una vecchia lampadina a incandescenza, ben lontana dall'intervallo ultravioletto estremo necessario. Far passare corrente attraverso gas neon raffreddato è ciò che fa brillare le insegne al neon, una lunghezza d'onda della luce del tutto diversa e molto più lunga, inadatta a stampare caratteristiche dei chip su scala nanometrica.

Poiché questo processo di generazione della luce è così difficile da progettare, una sola azienda al mondo, l'olandese ASML, è riuscita a costruire macchine capaci di farlo, rendendo la litografia EUV una delle tecnologie più esclusive e costose di tutta la manifattura.

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