Comment les machines de lithographie EUV génèrent-elles réellement cette lumière ultraviolette extrême ?

Les machines de lithographie EUV génèrent leur lumière ultraviolette extrême en bombardant chaque seconde des dizaines de milliers de minuscules gouttelettes d'étain en fusion avec un laser puissant, transformant chaque gouttelette en plasma émettant de la lumière à la longueur d'onde requise de 13,5 nanomètres, laquelle est ensuite réfléchie par une série de miroirs d'une précision extrême, puisqu'aucune lentille ne peut transmettre une lumière aussi courte.

Chauffer un filament de tungstène produit une lumière visible ou infrarouge ordinaire, comme une vieille ampoule à incandescence, bien loin de la gamme d'ultraviolet extrême nécessaire. Faire passer du courant dans du néon refroidi est le principe des enseignes au néon, une longueur d'onde de lumière entièrement différente et bien plus longue, inadaptée à l'impression de motifs à l'échelle nanométrique sur une puce.

Parce que ce procédé de génération de lumière est si difficile à maîtriser, une seule entreprise au monde, la néerlandaise ASML, est parvenue à construire des machines capables de le réaliser, faisant de la lithographie EUV l'une des technologies les plus exclusives et les plus coûteuses de toute l'industrie manufacturière.