EUV 노광 장비는 이 극자외선 빛을 실제로 어떻게 만들어낼까?

EUV(극자외선) 리소그래피 장비는 초당 수만 개의 미세한 액체 주석 방울에 강력한 레이저를 쏘아, 각 방울을 플라스마로 바꿔 필요한 13.5나노미터 파장의 빛을 방출하게 만드는 방식으로 극자외선을 생성합니다. 이렇게 만들어진 빛은 그 정도로 짧은 파장을 투과시킬 수 있는 렌즈가 없기 때문에 일련의 초정밀 거울들에 반사되어 전달됩니다.

텅스텐 필라멘트를 가열하는 것은 옛날 백열전구처럼 일반 가시광선이나 적외선을 만들어낼 뿐, 칩 인쇄에 필요한 극자외선 범위와는 전혀 다릅니다. 냉각된 네온 기체에 전류를 흘리는 것은 네온사인이 빛나는 원리로, 나노미터 단위 칩 구조를 인쇄하기에는 전혀 맞지 않는 훨씬 긴 파장입니다.

이 빛 생성 과정은 공학적으로 구현하기가 워낙 어려워서, 전 세계에서 이를 실현할 수 있는 기계를 만든 회사는 네덜란드의 ASML 단 하나뿐입니다. 그 덕분에 EUV 리소그래피는 전체 제조업을 통틀어 가장 독점적이고 값비싼 기술 중 하나가 되었습니다.