EUV微影機台究竟是如何產生這種極紫外光的？

極紫外光刻(EUV lithography)機台產生極紫外光的方式,是用強力雷射每秒轟擊數萬顆微小的熔融錫液滴,將每顆液滴轉變成電漿,發出所需的13.5奈米波長光線,再由一系列超精密反射鏡將光線導引反射,因為沒有任何透鏡能透射如此短的波長。

加熱鎢絲燈絲產生的是普通的可見光或紅外光,就像老式白熾燈泡一樣,遠遠達不到所需的極紫外波段。讓電流通過冷卻的氖氣是霓虹燈發光的原理,波長完全不同且長得多,不適合用來印製奈米級的晶片細節。

由於這種產生光源的過程極難實現,全世界目前只有荷蘭的艾司摩爾(ASML)一家公司能夠製造出具備這種能力的機台,使極紫外光刻成為整個製造業中最獨門、也最昂貴的技術之一。